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磁控溅射镀膜机广泛应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。该系列设备主要采用直流(或中频)磁控溅射,可用于铜、钛、铬、不锈钢、镍等多种金属材料的涂层靶材。采用溅射工艺可以对薄膜进行镀膜,可以提高薄膜的附着力、重复性、密度、均匀性等特性。
可利用时间控制薄膜厚度满足设计工艺要求,节省晶控和光控环节,为客户节省大量膜厚仪耗材;可生产高折射率氮化膜,提高薄膜硬度性能;低温成膜可用于多种用途;zhuanli装置自动调节气体流量,保持目标电压稳定,保证成膜质量;可选配校正板外调节机构。
磁控溅射镀膜机的溅射沉积系统在侧壁上安装了多个圆柱形靶,以提高沉积速率和多层镀膜。该系统采用直流脉冲或射频功率的圆形阴极。垂直安装的基板和圆柱形阴极减少了镀膜过程中的颗粒污染。Ar膜(基片玻璃透过率>91.5%),420-680nm波段,单面平均透过率>95%,反射率小于0.5(平均值)%;双面平均透过率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;彩色膜或渐变色膜:根据客户样品,任意位置装膜或满炉连续5炉,1.2;沸腾试验:80℃沸腾30min,3M网格试验(1*1mm),大于4B。