真空镀膜机厂家蒸发镀膜

一、真空镀膜机厂家蒸发镀膜

有三种类型的蒸发源。① 电阻加热源：船箔或金属丝由钨、钽等难熔金属制成，通过电流加热船箔或金属丝上方的蒸发物质或将其置于坩埚中（图1【蒸发涂层设备示意图】），电阻加热源主要用于蒸发CD、Pb、Ag、al、Cu、Cr、Au、，镍和其他材料；② 高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发材料；③ 电子束加热源：适用于蒸发温度高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料进行蒸发。

与其他真空镀膜方法相比，蒸发镀膜具有更高的沉积速率，可用于沉积简单且不易热分解的复合膜。

通过加热使物质沉积在固体表面而蒸发的过程称为蒸发涂层。该方法最早由M.法拉第于1857年提出，并已成为现代常见的涂层技术之一。蒸发镀膜设备的结构。

金属和化合物等蒸发物质放置在坩埚中或悬挂在热线上作为蒸发源，待镀工件（如金属、陶瓷、塑料和其他基材）放置在坩埚前面。将系统抽至高真空后，加热坩埚以蒸发其中的物质。蒸发材料的原子或分子通过冷凝沉积在基底表面。薄膜厚度可以从几百埃到几微米不等。薄膜厚度取决于蒸发源的蒸发速率和时间（或加载量），并与源和基板之间的距离有关。对于大面积涂层，通常使用旋转基底或多个蒸发源来确保膜厚的均匀性。从蒸汽源到基板的距离应小于残余气体中蒸汽分子的平均自由程，以避免蒸汽分子与残余气体分子碰撞引起的化学相互作用。蒸气分子的平均动能约为0.1～0.2电子伏。

分子束外延可以用来沉积高纯度的单晶薄膜。用于生长掺杂GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2所示[分子束外延装置示意图]。喷射炉中安装了一个分子束源。当它在超高真空下加热到一定温度时，熔炉中的元素以分子束流的形式射向基板。当衬底加热到一定温度时，沉积在衬底上的分子可以根据衬底的晶格顺序迁移、生长和结晶。采用分子束外延技术可以获得具有所需化学计量比的高纯度化合物单晶薄膜，薄膜的最慢生长速率可以控制在1单层/s。通过控制挡板，可以精 确地制备出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延被广泛用于制备各种光学集成器件和各种超晶格薄膜。