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对我国离子镀来说，是真空镀膜技术的新发展。在普通真空镀膜（也称为真空蒸发）中，工件夹在真空罩中。当高温蒸发源通电加热时，待镀材料即蒸发材料熔化并蒸发。
由于温度升高，蒸发物质颗粒获得一定的离子镀动能，然后沿视线方向缓慢上升，最后附着在工件表面形成薄膜。该工艺形成的涂层与零件表面没有很强的化学结合，也没有扩散连接。附着力很差。有时候，就像落在桌面上的灰尘，会被人用手擦去。
然而，离子镀工艺是不同的。虽然也在真空罩中进行，但涂层过程是以电荷转移的形式实现的。也就是说，蒸发材料的粒子作为带正电荷的高能离子，在高压阴极（即工件）的吸引下高速注入工件表面。它相当于一颗高速子弹，能深深地穿透基体，在工件上形成一种附着牢固的扩散涂层。离子镀的工艺流程为：蒸发源与阳极相连，工件与阴极相连。当施加3～5千伏高压直流电时，蒸发源与工件之间产生电弧放电。
由于真空罩内充有惰性氩，部分氩在放电电场的作用下电离，从而在阴极工件周围形成等离子体暗区。带正电荷的氩离子被阴极的负高压吸引，猛烈地轰击工件表面，使工件表面的颗粒和污垢飞溅出来，从而使待镀工件表面通过离子轰击得到充分清洁。然后，连接蒸发源的交流电源，蒸发材料颗粒熔化蒸发，进入辉光放电区电离。在阴极的吸引下，带正电的蒸发材料离子与氩离子一起冲向工件。当工件表面蒸发物质离子的数量超过飞溅离子的数量时，它们会逐渐累积，形成牢固附着在工件表面的涂层。这是离子镀的简单过程。
