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真空镀膜设备的特点是什么
1、真空镀膜设备的不断改进，使涂层工艺得以持续实现，从而大大提高产品产量，生产过程中对环境无污染。
2、各种真空镀膜设备和技术都需要一个特定的真空环境，确保涂层材料加热蒸发或溅射过程中形成的蒸汽分子的运动不会受到大气中大量气体分子的影响、堵塞和干扰，消除对大气中气体分子的不利影响大气中的杂质。
3、每种真空镀膜设备的微调阀可精 确控制涂层室内残余气体的组成和质量分数，防止蒸发材料氧化，将氧气质量分数降至最 低，填充惰性气体等。，这是不可能的湿涂层。
4、由于真空镀膜设备的存在，该膜纯度高、致密性好、表面光亮，不需要加工，使薄膜的力学和化学性能优于化学镀和化学薄膜。
5、各种真空镀膜设备和技术都需要一个蒸发源或目标，将蒸发材料转化为气体。由于源或靶点的不断提高，制膜材料的选择范围得到了很大的拓展。无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷还是有机物，都可以蒸发各种金属薄膜和介电薄膜，同时蒸发不同的材料，获得多层膜。
