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PVD镀膜机的分层技术

2021-03-19 17:32:54

PVD镀膜机的分层技术

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1、 过滤阴极弧:FCA配有高效的电磁过滤系统,可以过滤离子源产生的等离子体中的宏观粒子和离子团簇。经过磁过滤后,沉积颗粒的解离率为100%,大颗粒可以过滤,因此薄膜非常致密、光滑、耐腐蚀,与机体结合力强。

2、 增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低压大电流将靶材分离成离子态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型阴极电弧能在电磁场的共同作用下有效地控制靶面上的电弧,使材料的解离率更高,薄膜性能更好。

3、 离子束DLC:烃类气体在离子源中被分离成等离子体。在电磁场的作用下,碳离子被离子源释放出来。通过调节施加在等离子体上的电压来控制离子束的能量。在衬底上引入氢离子束,沉积速度与离子电流密度成正比。星弧镀膜的离子束源采用高电压,离子能量较大,使薄膜与衬底的结合力很好;较大的离子电流使类金刚石薄膜的沉积速度较快。离子束技术的主要优点是可以沉积超薄多层结构,过程控制精度可以达到几埃,并且可以将过程中粒子污染造成的缺陷降到最 低。

4、 磁控溅射:在真空环境中,电离的惰性气体离子在电压和磁场的共同作用下轰击靶材,使靶材以离子、原子或分子的形式弹出,沉积在衬底上形成薄膜。根据不同的电离电源,导体和非导体材料都可以作为溅射靶。

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