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磁控镀膜设备的主要溅射方法是什么？我们来谈谈磁控镀膜设备的溅射方法。
磁控镀膜机的主要磁控溅射镀膜设备按其特点可分为以下四类：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。另外，利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积
目前，直流溅射（又称两级溅射）由于溅射压力高、电压高、溅射速率低、薄膜不稳定等原因，应用较少
在直流溅射发展的后期，人们在直流溅射表面施加磁场，磁场束缚了自由电子，改善了上述缺点。这也是现阶段广泛使用的溅射方法
再就是中频溅射，提高了阴极的发电率，而且不易引起放电、靶中毒等现象
射频溅射是对靶材进行高频溅射，不易放电。目标材料可以是任何金属或陶瓷材料。沉积膜致密，附着力好
如果我们寻找的本质区别是：直流溅射是气体放电的早期阶段，而射频则是晚期阶段。我们常用的射频是电焊机。溅射设备的不同就是电源的不同
