真空镀膜机的特性分析

2021-04-12 11:08:16

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1、晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶、多晶和非晶的，这是真空镀膜技术中的一个热点问题。

真空镀膜机

2、化学成分均匀性：也就是说，在薄膜中，化合物的原子成分由于尺度小，容易产生不均匀的特性。如果SiO3膜的涂布工艺不科学，实际的表面成分不是SiO3，而是其他比例。涂层的化学成分不是所需的薄膜，这也是真空镀膜的技术含量。具体因素如下。

3、厚度的均匀性也可以理解为粗糙度。从光学薄膜的尺度（即1/10波长为单位，约100a）来看，真空镀膜的均匀性相当好，粗糙度可以很容易地控制在可见光波长的1/10以内，也就是说，薄膜的光学性能没有障碍。但是，如果是指原子层尺度上的均匀性，也就是说要达到10A甚至1a的表面平整度，具体的控制因素将根据不同的涂层进行详细说明。