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真空镀膜机设备主要是指需要在高真空下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等多种。其主要思想分为蒸发和溅射。
真空镀膜机的工作原理是薄膜在高温下蒸发并在工件表面结晶。由于空气对蒸发膜分子的阻力，晶体变得粗糙和暗淡，因此在高真空下晶体必须是精细和明亮的。真空度不高，晶体失去光泽，结合力差。早期真空镀膜依赖于蒸发的自然散射，结合力差，工作效率低，光泽度差。目前，采用中频磁控溅射靶，在电场的作用下，膜体的蒸发分子被加速轰击靶材料，大量的靶原子被溅射出来。将中性靶原子（或分子）沉积在基底上形成薄膜，解决了以往镀钛、镀锆等无法自然蒸发处理膜体的问题。
如果设备频率高、电流大，必须用冷却水冷却。当电流在导体中流动时，会产生集肤效应，电荷会聚集在导体的表面积上，使导体的导电性发热。因此，采用介孔管作为导体，中间加水冷却。
从更深层次研究了电子在非均匀电磁场中的运动规律。讨论了磁控溅射的一般原理。磁场的横向不均匀性和对称性是产生磁约束的根本原因。磁控溅射可以说是涂层技术的杰出成就之一。它具有溅射速率高、衬底温升低、膜基结合力好、器件性能稳定等特点。
冷水机控制真空镀膜机的温度，保证镀件的高质量。如果不配备冷水机组，真空镀膜机就无法达到高精度、高效率的温度控制目的，因为自然水和冷却塔不可避免地受到自然温度的影响，这种控制方式极不稳定。
