0757-86136159
为客户提供个性化的解决方案以及快捷优质的售后服务
1、 真空镀膜：
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频、磁控管等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新技术。简言之，在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物，使其凝固并沉积在被镀物体（称为基体、基体或基体）上的方法称为真空镀膜。
众所周知，如果在某些材料表面镀上一层薄膜，它们将具有许多新的、良好的物理化学性质。20世纪70年代，在物体表面进行涂层的主要方法是电镀和化学镀。前者通过电解液通电进行电解，电解后的离子作为另一电极镀在基板表面。因此，基板必须是电的良导体，而且薄膜的厚度很难控制。后者是化学还原法。薄膜材料必须制备成溶液，并能迅速参与还原反应。这种涂膜方法不仅涂膜附着力差，而且涂膜不均匀，不易控制。同时，还产生大量废液，造成严重污染。因此，这两种涂层工艺，即湿涂层法，受到很大的限制。
真空镀膜是一种新型的镀膜技术，通常称为干膜技术。
二、 光学涂层：
光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层（或多层）金属（或电介质）薄膜的工艺。光学零件表面镀膜的目的是减少或增加光的反射、分光、分色、滤光和偏振。常用的镀膜方法有真空镀膜（物理镀膜的一种）和化学镀膜。
光学镀膜是通过物理或化学方法在材料表面涂覆一层透明的电解质膜或金属膜，以改变材料表面的反射和透射特性。
三、 由此可见，真空镀膜和光学镀膜有两个区别
1、真空镀膜是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控。光学镀膜是通过物理或化学方法在材料表面涂覆一层透明的电解质膜或金属膜，以改变材料表面的反射和透射特性。
2、真空镀膜是真空应用领域的一个重要组成部分，而光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层（或多层）金属（或介质）膜的过程。
