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PVD涂层分为三类：真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空蒸发镀膜。
PVD镀膜设备：通常称为PVD真空镀膜设备或PVD真空镀膜机
PVD镀膜原理：在真空环境下，采用低压、大电流电弧放电技术，利用加热蒸发源或采用辉光放电、离子轰击等方法将涂层材料沉积在待镀产品表面。
PVD镀膜可制成薄膜：可镀各种单一金属薄膜（金、银、铝、锌、钛等）、氧化膜（TiO等）、碳化物薄膜（TIC、TiCN等）、氮化物薄膜（tin、CrN、TiAIN等），薄膜的颜色可为单色或七色。薄膜厚度为微米，真空镀膜厚度相对较薄，涂层几乎不影响产品尺寸。
一、真空溅射镀膜：
在辉光放电中，溅射是溅射技术的基础。辉光放电过程中通常会产生溅射。溅射是用高动能的粒子或离子束轰击固体表面，使靠近固体表面的原子获得入射粒子，并将部分能量从固体分离到真空中沉积在产品上。
影响溅射效果的因素如下：1。靶材；2。轰击离子的质量；3。轰击离子能量。轰击原子的入射角。
二、真空离子镀膜：
离子镀是一种基于蒸发和溅射的新型镀膜技术。采用等离子体真空镀膜工艺。离子镀可获得性能优良的薄膜
1、表面光滑，镀层厚度可严格控制；
2、膜的附着力强，附着力高；
3、薄膜厚度均匀，无边界效应；
4、这胶卷的密度很高。
三、真空蒸镀膜：
在真空室中，来自蒸发源的薄膜原料被加热形成原子或分子蒸汽，这些蒸汽流入产品表面并冷凝形成固体薄膜。
优点：蒸发设备便宜，操作简单，成膜速度快，镀层纯度高，质量好，厚度可控制；
缺点：膜层附着力低，工艺重复性不够好，不易获得膜层的结晶结构。
对于这三种PVD涂层工艺，不同的产品需要选择不同的工艺和配置专用设备。
