磁控溅射的优点及应用

磁控溅射的优点如下

（1） 操作简单。在镀膜过程中，只要工作压力、电源等溅射条件相对稳定，就能获得相对稳定的沉积速率。

（2） 沉积速率高。在大多数金属薄膜的沉积过程中，高熔点金属和氧化物薄膜的沉积速率很高，如溅射钨和铝薄膜以及反应溅射的TiO2和ZrO2薄膜。

（3） 基板温度较低。与双极溅射或热蒸发相比，它对衬底的加热较小，有利于织物溅射的实现。

（4） 这种膜非常稳定。溅射薄膜与基体结合良好，机械强度也有所提高。

（5） 这部电影紧凑而均匀。溅射薄膜的聚集密度普遍增大。溅射薄膜的表面形貌均匀。

（6） 溅射薄膜具有良好的性能。例如，溅射金属薄膜通常具有良好的光学、电学和其他一些特性。

（7） 很容易组织批量生产。磁控管电源可根据需要扩展，大面积镀膜容易实现。另外，溅射可以连续工作，镀膜过程易于自动控制，可以实现工业生产线操作。

（8） 工艺环境保护。传统的湿法电镀会产生废液、废渣和废气，对环境造成严重污染。其无环境污染、生产效率高的原则可以解决这一问题。

磁控溅射应用：

它是一种应用广泛的薄膜沉积技术。随着这项技术的不断发展和新型功能薄膜的探索和研究，这项技术的应用已经扩展到生产和科研的许多领域。

（1） 在微电子领域，作为一种非热镀膜技术，主要用于制备难生长、不适合化学气相沉积（CVD）或金属有机化学气相沉积（MOCVD）的材料和薄膜。它可以获得大面积、相对均匀的薄膜。它包括欧姆接触的Al、Cu、Au、W、Ti等金属电极膜和tin、Ta2O5、tio2、Al2O3、ZrO2、AlN等可作为栅极绝缘层或扩散阻挡层的介电薄膜。

（2） 该技术还应用于光学薄膜（如减反射膜）、低发射率玻璃和透明导电玻璃。在透明导电玻璃上溅射SiO2薄膜和掺杂ZnO或insn氧化物（ITO）薄膜。可见光平均透过率大于90%。

（3） 在现代机械制造业中，利用这种技术可以制备表面功能薄膜和超薄薄膜

硬脑膜和自润滑膜可以提高高涂层产品的表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而大大提高涂层产品的使用寿命。

除上述领域外，磁控溅射还在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁电阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等领域的研究中发挥了重要作用。