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真空离子镀膜机的整个工作过程是：首先对真空室进行真空处理，直到真空环境压力达到4x10⁻PA以上，接通高压电源，在基板和蒸发器之间形成一个带有低压放电气体的等离子体低温区。阴极辉光放电是由衬底电极与5000v直流负高压连接而成。惰性气体离子在负辉光区附近产生。它们进入阴极暗区，被电场加速并轰击在基底表面。这是一个清洁过程。之后，他们进入涂层过程。通过轰击和加热，一些电镀材料被汽化。在等离子体区，它们进入质子，与电子和惰性气体离子发生碰撞，部分被电离，高能电离离子轰击薄膜表面，在一定程度上改善了薄膜质量。
真空离子镀膜机的原理是：在真空室中，利用气体或蒸发物的电离部分的放电现象，在蒸发物离子或气体离子的轰击下，将这些蒸发物质或其反应物同时沉积在衬底上，得到薄膜。
真空离子镀设备集真空蒸发、等离子体技术和气体辉光放电于一体，不仅提高了薄膜的质量，而且扩大了薄膜的应用范围。该工艺的优点是衍射能力强，与各种涂层材料的附着力好。离子镀的原理首先提出的。离子镀有很多种，包括蒸发加热、电阻加热、电子束加热、等离子体电子束加热和高频感应加热。
