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磁控溅射溅射法
2021-06-10
溅射镀膜是在真空室中用高能粒子轰击靶表面的技术。靶中的原子和其他粒子被粒子的动量转移击落,并沉淀在衬底上形成薄膜。该工艺具有溅射面积小、溅射材料可控性强、溅射速度快等优点。因此,近年来得到了迅速的发展和广泛的应用。溅射技术中的沉积方法有很多
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