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磁控溅射镀膜机
溅射镀膜机的技术特点
2021-03-29
溅射镀膜机的技术特点对于我们的溅射镀膜机来说,提高溅射膜溅射机速率的关键是提高溅射靶的溅射速率。因此,必须提高等离子体的电离度。也就是说,在相同放电功率下,离子的数量增加。从溅射产物的靶表面,除了原子或分子,二次电子也被击中。这些电子被电场
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溅射镀膜机的功能和原理
2021-03-24
溅射镀膜机的功能和原理溅射镀膜机的基本原理是在电场和交变磁场作用下,在ar-02气体中利用等离子体对目标表面进行加速高能粒子的轰击。能量交换后,目标表面上的原子从原晶格中逸出,转移到基底表面形成薄膜。该溅射机具有成膜速度高、衬底温度低、附着
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真空镀膜设备操作规程
2021-02-25
有关真空镀膜设备的操作,请参阅设备手册、真空镀膜机旋钮下的注意事项和仪表板上的指针显示。总体情况如下:①检查真空镀膜设备的操作控制开关是否在“off”位置。②打开总电源开关,真空镀膜设备通电。③拉出低压阀。打开充气阀,当听不到气流声时
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