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磁控溅射镀膜机是一种工艺试验仪器,主要用于机械工程领域。它利用Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,通过加速的高能粒子轰击靶材表面,使得靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,并转移到基体表面,进而形成薄膜。这种设备可用于制备各种全反射膜、半透明膜、光学薄膜、功能膜等,广泛应用于装饰、微电子、光学、机械加工和医疗等领域。
使用磁控溅射镀膜机的一般步骤如下:
将溅射镀膜机的总电源开关置于开启状态,并检查控制面板是否正常亮起。
解锁镀膜机的控制功能,根据工艺要求对设备参数进行调试,如调整辅助气体的流量和室内的真空度。
加载靶材和标的物。具体地说,需要打开磁控溅射镀膜机的前装门,将待镀膜的标的物放置在标的物台上;同时打开靶材舱门,将靶材装入靶材托盘中,然后将靶材托盘放入靶材舱。
使用操作面板,将坐标定位到标的物的位置上。
一切准备就绪后,按下“启动”按钮,开始溅射镀膜过程。
总的来说,磁控溅射镀膜机是一种功能强大、应用广泛的设备,其操作过程需要严格按照规定进行,以确保镀膜的质量和效率。