0757-86136159

pvd镀膜机
NEWS CENTER
新闻中心

为客户提供个性化的解决方案以及快捷优质的售后服务

磁控溅射镀膜机如何调整工艺参数?

2024-06-05 16:00:41

磁控溅射镀膜机调整工艺参数是一个关键步骤,以下是根据参考文章中的相关信息,清晰归纳出的调整方法:

确认设备状态:

确认电源连接正常。

检查真空泵、冷却循环水等设备是否正常工作。

设置基础参数:

打开真空室门,将基底材料放置在样品台上。

关闭真空室门,启动真空系统,将室内抽至高真空状态。

预溅射清洗:

打开磁控溅射源,进行预溅射清洗靶材,以确保靶材表面的清洁。

关键工艺参数调整:

溅射气压:通常设置在0.3至1帕之间,根据实际需要调整。溅射气压主要影响溅射离子的能量,从而影响溅射原子到达衬底时的迁移和扩散能力。气压过高或过低都可能影响成膜质量。

溅射功率:根据靶材和需要制备的薄膜性质调整。溅射功率过低时,沉积速率低,溅射原子到达衬底能量也低;溅射功率过高时,虽然可以提高溅射粒子能量,但沉积速度过快,影响成膜质量,并可能损伤靶材。

靶基距:即靶材与基底之间的距离,需要根据实际情况调整。靶基距太大,溅射原子到达衬底碰撞次数过多,能量损失大;靶基距太近,薄膜受到带电粒子轰击,且沉积速率太快可能导致薄膜内部缺陷密度增加。

工作气体:通常选择氩气或氖气作为溅射气体。

溅射时间:根据需要的薄膜厚度和沉积速率确定。

监控与调整:

在镀膜过程中,需要监控各种参数,如气压、电流、功率等,确保设备正常运行,并根据需要实时调整。

完成镀膜与检查:

完成溅射镀膜后,可以检查镀膜的质量,如颜色、均匀性、厚度等,并根据需要进行后续处理。

设备维护:

定期检查和维护设备部件,如真空泵、冷却循环水系统等,以确保设备的长期稳定运行。



20201020091326_907.jpg

最近浏览:

联系我们

武先生:13929969711

座机:0757-86136159

营业执照

邮箱: info@foxinzk.com

官网:www.foxinzk.com

3e5ba90532fe1b580d28c59c9d7d5bc7.png

Copyright © 佛山市佛欣真空技术有限公司 粤ICP备14055032号 主要从事于pvd镀膜机,真空镀膜机,溅射镀膜机, 欢迎来电咨询!
服务支持:舍予科技