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真空沉积设备的蒸发沉积涂层和溅射涂层包括许多类型,包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、溶胶凝胶法等。
1、 对于蒸发涂层:
通常,对目标进行加热,使其表面成分以自由基或离子的形式蒸发。
厚度的均匀性主要取决于:
1.基质材料和目标材料之间的晶格匹配程度
2.基板表面温度
3.蒸发功率和蒸发速率
4.真空度为
5.涂层时间和厚度。
成分均匀性:
蒸发涂层中成分的均匀性不容易保证,具体因素可以如上所述进行调整。然而,由于原理的限制,蒸发涂层中组分的均匀性对非单组分涂层不利。
晶体均匀性:
1.格点匹配
2.基板温度
3.蒸发速率
溅射涂层可分为多种类型,一般来说,与蒸发涂层的区别在于溅射速率将成为主要参数之一。
在激光溅射PLD中,成分的均匀性很容易保持,但原子尺度厚度的均匀性相对较差(由于脉冲溅射),晶体生长的控制也相对常见