为客户提供个性化的解决方案以及快捷优质的售后服务
真空电镀设备的不均匀镀膜厚度:
不管监视器的精度如何,它只能控制真空室中单个点的薄膜厚度,通常是工件架的中间位置。如果真空电镀设备的该位置处的膜厚度不是相对均匀的,则远离中心位置的基板不能获得均匀的厚度。尽管屏蔽可以消除长期的不均匀性,但膜厚度的一些变化是由蒸发源的不稳定性或膜材料的不同性能引起的,几乎不可能消除。然而,适当选择真空室结构和蒸发源可以将这些影响降至低。
在过去的几年里,越来越多的用户要求涂层系统制造商提供高性能、小规格、简单的光学涂层系统。同时,用户对性能的要求不仅没有降低,反而有所提高,尤其是在薄膜密度和确保吸水后光谱变化很小化方面。
目前,该系统的平均尺寸规格已经降低,用于光学涂层生产的小型设备的应用也成为一个纯粹的技术问题。因此,选择现代光学涂层系统的关键在于仔细考虑涂层产品的预期性能、基材的尺寸和物理特性,以及确保高度一致的工艺所需的所有技术因素。