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在使用磁控镀膜机时，使用通常的溅射方法，发现溅射效率不是很高。为了提高溅射效率，加快工作进度。
那么如何提高设备的效率呢？这需要提高气体的物理和化学效率。提高气体的电离效率可以有效地提高溅射效率。
通常，在适配过程中，当加速入射离子轰击靶阴极表面时，会产生电子发射，阴极表面产生的电子开始加速到阳极进入负辉光区，与中性气体原子碰撞，产生自持辉光放电所需的离子。电子的平均距离随着电子能量的增加而增加，随着气压的增加而减小，尤其是在远离阴极的位置。它们的热壁损耗也非常大，主要是因为它们的电离效率很低。
因此，通过添加平行于阴极表面的磁场，可以将电子限制在阴极范围内，从而有效提高气体原子的梨花效率，从而提高磁控溅射镀膜设备的溅射效率。
