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1、阴极电弧过滤:过滤阴极电弧(FCA)电磁过滤系统,配备高效离子源,可将等离子体中产生的宏观粒子和离子质量过滤干净,经磁过滤后的沉积粒子电离率为100%,并可过滤掉粒子,所以制备的膜非常致密光滑,具有良好的耐腐蚀性,并且机体的附着力非常强。
2、增强型磁控阴极电弧:阴极电弧技术在真空条件下,通过低电压大电流将目标去离子化成离子态,从而完成薄膜材料的沉积。增强磁控阴极电弧可以通过电磁场的相互作用有效地控制目标材料表面的电弧,使材料具有更高的电离率,薄膜性能更好。
3、离子束DLC:碳氢化合物气体在离子源中被电离成等离子体,在电磁场的共同作用下从离子源中释放出碳离子。离子束能量是通过调节施加到等离子体上的电压来控制的。将碳氢离子束引入基板,沉积速率与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压,离子能量较大,使薄膜与基体结合良好。离子电流越大,DLC膜的沉积速度越快。离子束技术的主要优点在于沉积超薄多层结构,工艺控制精度可达几埃,并能限度地减少工艺过程中颗粒污染所造成的缺陷。
4、磁控溅射:在真空环境下,通过电压和磁场的联合作用,被电离的惰性气体离子轰击靶体,导致靶体以离子、原子或分子的形式喷射并沉积在基片上形成薄膜。导体和非导体材料都可以溅射作为靶材,这取决于所使用的电离电源。