0757-86136159

pvd镀膜机
NEWS CENTER
新闻中心

为客户提供个性化的解决方案以及快捷优质的售后服务

介绍真空镀膜技术中的热点问题

2021-12-13 14:17:29

真空镀膜设备的蒸发沉积镀膜和溅射镀膜,包括多种类型,包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、溶胶-凝胶法等。


一、对于蒸发涂料:


通常对靶进行加热,使其表面组分以自由基或离子的形式蒸发。


厚度均匀性主要取决于:


1. 基体材料与目标材料的晶格匹配程度


2. 衬底表面温度


3.蒸发功率和速率


4.真空度为


5. 涂布时间和厚度。

真空镀膜机




组件均匀性:


蒸发涂料的组份均匀性不是很容易保证的,具体的因素可以如上调节,但由于原理的限制,对于非单组份涂料,蒸发涂料组份均匀性不好。


晶体均匀性:


1. 晶格匹配


2. 衬底温度


3.蒸发率


溅射镀膜分为许多种,一般来说,与蒸发镀膜的区别在于,溅射速率将成为主要参数之一。


在激光溅射PLD中,成分的均匀性容易保持,但原子尺度厚度的均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),对晶体生长的控制也比较普遍。


下一篇:如何维护电镀设备?2021-12-15

最近浏览:

联系我们

武先生:13929969711

座机:0757-86136159

营业执照

邮箱: info@foxinzk.com

官网:www.foxinzk.com

3e5ba90532fe1b580d28c59c9d7d5bc7.png

Copyright © 佛山市佛欣真空技术有限公司 粤ICP备14055032号 主要从事于pvd镀膜机,真空镀膜机,溅射镀膜机, 欢迎来电咨询!
服务支持:舍予科技