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真空镀膜设备的蒸发沉积镀膜和溅射镀膜,包括多种类型,包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、溶胶-凝胶法等。
一、对于蒸发涂料:
通常对靶进行加热,使其表面组分以自由基或离子的形式蒸发。
厚度均匀性主要取决于:
1. 基体材料与目标材料的晶格匹配程度
2. 衬底表面温度
3.蒸发功率和速率
4.真空度为
5. 涂布时间和厚度。
组件均匀性:
蒸发涂料的组份均匀性不是很容易保证的,具体的因素可以如上调节,但由于原理的限制,对于非单组份涂料,蒸发涂料组份均匀性不好。
晶体均匀性:
1. 晶格匹配
2. 衬底温度
3.蒸发率
溅射镀膜分为许多种,一般来说,与蒸发镀膜的区别在于,溅射速率将成为主要参数之一。
在激光溅射PLD中,成分的均匀性容易保持,但原子尺度厚度的均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),对晶体生长的控制也比较普遍。