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无论监视器有多精 确，它都只能控制真空室中单个点的膜厚，一般来说，是工件架的中间位置。如果此时真空电镀设备的厚度不是均匀的，那么远离中心的基材就不会达到均匀的厚度。虽然屏蔽可以消除长期的不均匀性，但由于蒸发源的不稳定性或薄膜材料的不同行为，有些膜厚变化几乎无法消除，但适当选择真空室结构和蒸发源可以将这些影响降到低。
在过去的几年里，越来越多的用户要求镀膜系统厂家提供高性能、小规格、简单的光学镀膜系统，同时，用户的性能要求不但没有降低，而且还提高了，特别是在胶片密度和保证吸水后光谱变化极小。
现在，系统的平均尺寸在减小，利用小尺寸设备生产光学涂层已经成为一个纯粹的技术问题。因此，选择现代光学镀膜系统的关键在于仔细考虑镀膜产品的预期性能、基材的尺寸和物理性能，以及确保高度一致的工艺所需的所有技术因素。
