光学镀膜设备原理分析

2021-07-14 14:59:03

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1）第一代光学镀膜原理

抗磨膜始于20世纪70年代初。当时，人们认为玻璃镜片由于硬度高而难以研磨，而有机镜片则太软而无法佩戴。因此，在真空中，将石英材料镀在有机透镜的表面，以形成非常坚硬的耐磨膜。但由于热膨胀系数与基体材料不匹配，容易去除薄膜，且薄膜易碎，因此抗磨效果不理想。

光学镀膜设备

2）第二代光学镀膜原理

自20世纪80年代以来，研究人员发现磨损机理不仅与硬度有关，而且具有“硬度/变形”的双重特征，即有的材料硬度较高但变形较小，有的材料硬度较低但变形较大。第二代抗磨膜技术是在有机镜片表面涂上一层硬度高、不易开裂的材料，采用浸渍工艺。

3）第三代光学镀膜原理

第三代抗磨膜技术是20世纪90年代以后发展起来的，主要是为了解决涂有减反射膜的有机透镜的耐磨性问题。由于有机透镜基板的硬度与减反射膜的硬度相差很大，新理论认为两者之间应该有一层耐磨涂层，这样透镜在被沙砾摩擦时可以起到缓冲作用，不易产生划痕。第三代耐磨膜的硬度介于减反射膜和透镜基体之间，摩擦系数低，不易开裂。