磁控溅射镀膜机磁控溅射技术的应用范围

2021-07-01 17:53:59

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磁控溅射是目前广泛应用的薄膜沉积技术。随着溅射技术的不断发展和新型功能薄膜的探索，磁控溅射镀膜机的应用已经扩展到生产和科研的许多领域。在微电子领域，作为一种非热镀膜技术，它主要用于化学气相沉积（CVD）或金属有机化学气相沉积（MOCVD）生长和不适用材料薄膜沉积，可以获得大面积、非常均匀的薄膜。

溅射镀膜机

它包括铝、铜、金、钨、钛等欧姆接触的金属电极膜，以及锡、钽、钛、氧化铝、氧化锆、氮化铝等可作为栅极绝缘层或扩散阻挡层的介质膜。反应磁控溅射技术应用于光学薄膜已有多年的历史。中频闭场非平衡磁控溅射技术在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面也得到了应用。特别是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波和射频屏蔽器件及器件、传感器等。

在玻璃衬底或柔性衬底上溅射透明导电玻璃，制备了SiO2薄膜和掺杂ZnO或insn氧化物（ITO）薄膜。ITO薄膜的电阻率接近1025Ω· 在可见光范围内平均透光率大于90%。在光存储领域，光盘存储技术自推出以来不断更新。磁控溅射技术也被用于制备zns2sio2/gesbte（或AgInSbTe）/zns2sio2/Al多层光记录介质薄膜。

目前，随着光存储需求的不断增加，磁控溅射技术将在光存储领域发挥越来越重要的作用。在现代机械加工工业中，表面功能膜、超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自发明以来取得了长足的进步。它能有效地提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而大大提高涂层产品的使用寿命，并得到越来越广泛的应用。